潔凈室氧化爐管使用操作方法

一般潔凈室所採(cǎi)用之氧化爐管為L(zhǎng)enton LTF 1200水平管狀式爐子，可放2英吋硅晶圓，加熱區(qū)大於50cm，高溫度可達(dá)1200?C并可連續(xù)24hr，大操作溫度為1150?C，溫控方式採(cǎi)用PID微電腦自動(dòng)溫度控制器。

目的

將硅晶片曝露在高溫且含氧的環(huán)境中一段時(shí)間后，我們可以在硅晶片的表面生長(zhǎng)一層與硅的附著性良好，且電性符合我們要求的絕緣體-SiO2。

注意:

＊?在開(kāi)啟氧化爐之前，必須先確定【HEAT】Switch設(shè)定為【O】關(guān)閉的狀態(tài)。Switch在有電源供應(yīng)時(shí)【l】將會(huì)發(fā)光，而氧化爐也將開(kāi)始加熱。

＊?如果過(guò)溫保護(hù)裝置是好的，請(qǐng)確定警報(bào)點(diǎn)的設(shè)定於目前的使用過(guò)程中為恰當(dāng)?shù)亍Ｈ绻^(guò)熱保護(hù)裝置是好的，蜂嗚器會(huì)有聲音，在過(guò)溫控制操作中有警報(bào)一致的程序。

＊?為了改善石英玻璃管或襯套熱量的碰撞，其加熱速率大不能超過(guò)3?C per min。

＊?為了減少熱流失，必須確定正確的操作程序，適當(dāng)?shù)氖褂媒^緣栓和放射遮蔽可以密封石英玻璃管。

＊?在操作氧化爐時(shí)不要在大溫度下關(guān)閉氧化爐，以延長(zhǎng)氧化爐的壽命。

操作步驟:

1.????檢查前一次操作是否有異常問(wèn)題發(fā)生，并填寫(xiě)操作記錄。

2.????檢查機(jī)臺(tái)狀態(tài)